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              GVC-2000T高真空磁控離子濺射儀


              描述

              全自動知識產品

              沒有熱損傷,效率更高,顆粒度更細,更適合高分辨電鏡

              應用領域

              • 高分辨掃描電鏡樣品制備(實際放大倍數≥100K)
              • 電極制備-可制備各種金屬電極、ITO電極

              設備配置與技術參數

              名稱&型號 高真空磁控離子濺射儀GVC-2000T
              真空系統 渦輪分子泵(進口 ):德國萊寶90i (單磁懸浮分子泵,抽速為90L/s)
              旋片式真空泵:浙江飛越VRD-4 (抽速為 1 .1L/s)
              真空測量 全量程復合真空規(進口):1.0E5Pa-1E-4Pa
              系統極限真空 ≤5E-3Pa
              濺射電源 磁控濺射電源,最大功率150W
              可用靶材 所有金屬靶材,ITO靶材
              濺射電壓 300-600V,根據選擇靶材、控制參數不同而變化
              濺射電流 0-200mA連續可調,步長5mA
              濺射時間 0-9999s, 連續可調步長1s
              操作界面 7英寸TFT彩色液晶觸摸屏,分辨率800×480
              操作方式 一鍵操作
              抽氣節拍 <15分鐘
              控制方式 只需設定濺射電流和時間即可,全自動控制
              具備預濺射擋板(預濺射時間可設定),全自動控制
              保護功能 軟硬件互鎖、防止誤操作,具備電流、真空保護等
              樣品臺直徑 φ125mm,可自轉,可自動手動控制,轉速4-40rpm可調
              真空室 高硅硼玻璃,規格尺寸約φ200×130mm
              電源供電 220V 50Hz 最大功率800W
              尺寸&重量 重量 424(長) ×345(深) ×420mm(高)、 25 kg (凈重)
              冷卻方式 內部風冷
              選配 樣品臺選擇、膜厚控制、溫度監測等

              鍍膜樣品示例:

                   銀.jpg   鎢.jpg   鉻.jpg

                           靶材-銀                           靶材-鎢                           靶材-鉻

                   鎳.jpg   釩.jpg   錫.jpg

                            靶材-鎳                         靶材-釩                           靶材-錫        

                   銅.jpg    鉭.jpg   鐵.jpg 

                           靶材-銅                              靶材-鉭                        靶材-貼 

                   鈦.jpg     鉛.jpg    鉬.jpg

                             靶材-鈦                         靶材-鉛                            靶材-鉬

                   鋁.jpg      鉑.jpg    金.jpg

                          靶材-鋁                               靶材-鉑                               靶材-金

                   鋯.jpg       鉺.jpg    ITO.jpg

                            靶材-鋯                               靶材-鉺                        靶材-ITO

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